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选择性激光烧蚀（SLE）是一种减材激光技术，可以制造具有微米精度的复杂形状的3D玻璃部件。该技术包括两个制造步骤：飞秒激光照射和随后的化学蚀刻。紧密聚焦的飞秒激光束诱导激光束焦点内透明材料的修饰。通过空间移动激光焦点，以逐点方式将明确定义的结构写入基板表面。之后，将样品浸入蚀刻剂溶液中，蚀刻出激光修饰区域。

SLE通常用于制造电子设备和其他精密组件，因为它允许蚀刻图案的高精度和细节。此外，由于激光束高度聚焦，因此可用于蚀刻非常小和复杂的设计。

该过程包括两个技术步骤；首先，CAD设计后、将所需部分直接写入玻璃内，随后在第二个加工步骤中蚀刻掉。SLE技术可以生产具有~200 nm RMS特征尺寸的低表面粗糙度的无锥度微米精密通道。由于熔融石英玻璃在可见光波段范围内是透明的，对大多数化学品具有生物相容性和惰性，因此SLE制造的微流体非常适合许多科学应用，例如生化研究。

喷嘴尺寸可达几个厘米，其中通道的孔径可达几个微米，微尺度喷嘴可用于将高压气体和液体输送到可变直径喷出，流体点胶和各种印刷技术是潜在喷嘴使用的场景。

选择性激光蚀刻（SLE）技术能够制造具有复杂结构的真正3D玻璃结构，例如富勒烯分子状结构。通过使用SLE技术，可以实现高选择性和低表面粗糙度，这两者都为复杂建筑高纵横比结构生产创造了可能性。使用这项技术，蚀刻表面的表面粗糙度通常约为200 nm（RMS）。富勒烯类分子结构论证证明SLE适用于制备高纵横比多孔复杂结构。