DLP无掩膜光刻系统

产品系列：超快激光加工 产品型号：DLP无掩膜光刻系统 产品品牌：FEMTO DLP 无掩膜光刻机UTA系统是基于DLP投影技术和金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其价格远低于传统系统（用于掩膜光刻的图案投影曝光系统）； 可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的光刻图案。 光刻前的模拟（红光） 白光刻蚀（可设置时间） 在线咨询 旭量光学 在线客服 您可以填写联系表单，稍后安排专人与您电话沟通，如未能及时回应可拨打销售热线：18116227931(微信) 显微镜L…

产品资料整理

页面概述

无掩膜光刻机UTA系统是基于DLP投影技术和金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其价格远低于传统系统（用于掩膜光刻的图案投影曝光系统）； 可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的光刻图案。

您可以填写联系表单，稍后安排专人与您电话沟通，如未能及时回应可拨打销售热线：18116227931(微信)

• 显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
• 使用金相显微镜和LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
• 图案可以在PC上自由创建。
• 因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极，所以它比电子束光刻便宜且简单，不需要制造昂贵的电极图案掩膜板。
• 由于显微镜和DLP的结合，可以用很低的成本来构建系统;
• 易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案;
• 通过物镜放大倍率图案，可以进行大范围的批量曝光;
• 可以连接到您自己的显微镜上（选项）;
• 分辨率在微米级,最小刻度1um。
• 曝光范围：最大2.5mm×1.5mm 最小100um×60um

应用场景

面向无掩模 UV/LED 光刻、PCB 图形直写、微纳图形和光刻工艺验证需求。

技术亮点

• 显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。
• 使用金相显微镜和LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。
• 图案可以在PC上自由创建。
• 因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极，所以它比电子束光刻便宜且简单，不需要制造昂贵的电极图案掩膜板。
• 由于显微镜和DLP的结合，可以用很低的成本来构建系统;
• 易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案;

选型建议

建议结合样品材料、目标结构、加工精度、测试周期、预算范围和后续集成方式进行配置判断。旭量光学可根据旧资料参数和实际应用目标，协助整理系统路线和验证方案。

常见问题

DLP无掩膜光刻系统的分辨率是多少？

微米级分辨率，最小刻度1um。

曝光范围是多少？

最大2.5mm×1.5mm，最小100μm×60μm。

该系统适用于哪些应用？

薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成，石墨烯/钼原石电极形成，研发图案形成。

方案咨询

如果你正在评估相关系统、样品验证或工艺开发需求，可以把应用场景、材料类型、目标尺寸、精度要求和预算范围发给旭量光学，我们会协助判断适合的系统配置和验证路径。

方案咨询

如果你正在评估相关系统、样品验证或工艺开发需求，可以把应用场景、材料类型、目标尺寸、精度要求和预算范围发给旭量光学，我们会协助判断适合的系统配置和验证路径。