UV无掩模数字打印系统

产品系列：紫外激光直写系统

产品型号：UV 100

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手套箱兼容紫外激光直写系统，非常适合工业化应用。

特点
  • 紫外激光束经声光调制器和高精度振镜系统协同调制，通过高数值孔径(NA)物镜精准聚焦至光刻胶表面，确保曝光质量。
场景
  • 设备体积小巧，可灵活置入手套箱内，在恒定氛围环境中稳定运行，满足钙钛矿等氛围敏感材料的研发与测试需求。
参数指标
型号UV-100
最小特征尺寸XY250 nm
打印速率18 mm²/h
单次曝光面积≥ 0.25 mm x 0.25 mm
相邻曝光区域拼接误差≤ 150 nm
基片厚度0 – 4.5 mm
样品尺寸5 x 5 mm to 48 x 48 mm （按需定制）
最小移动步距≤ 50 nm
质量 约 12 kg
软件1、集成一键上样、自动对焦、自动对准和自动曝光等功能，显著提升打印效率。
2、支持梯度功率与焦点偏移曝光参数阵列，一次曝光即可快速锁定最佳工艺参数。
3、如下图逻辑清晰易用的逻辑化转换设计。
应用（海德堡替代）1、适用于量子点、功能薄膜、微电极及微纳光电器件样品的高分辨图形化加工。
2、适用于衍射光学元件（DOE）、周期/非周期微结构、功能表面纹理及微光学原型的高精度制备。