此设备的技术原理：Line-TF TPL 的核心技术

飞秒激光线曝光 + 时间聚焦（Temporal Focusing）

的新型飞秒激光架构。

其核心思想是：

不再使用单点聚焦，

而是：

生成一条“可编程飞秒激光线”。

与现有的多焦点双光子聚合打印技术对比

相比：

• CGH多焦点
• DOE多焦点
• Light-sheet TPL
• Metalens阵列TPL

优势：

技术指标	Line-TF TPL
连续打印	√
全带宽运行	√
实时流传输	√
像素级灰度	√
无拼接	√
亚100nm	√
工业级潜力	极强

系统能力

该技术提出的：

Line-TF TPL

是一种：

面向工业级纳米制造的连续式飞秒激光双光子光刻平台。

通过：

• 线照明时间聚焦
• DMD高速调制
• 数据压缩流传输
• 连续同步扫描
• 灰度曝光控制

实现了：

全带宽、连续式、无拼接、高灰度、高吞吐量的三维纳米制造。

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其意义在于，首次将TPL从：

“实验室级研究工具”

推进为：

“具备工业连续生产能力的纳米制造平台”。。